Fujifilm XF 50-140mm F2.8 R LM OIS WR oferece-lhe as distâncias focais telefoto de uso frequente, equivalentes a 76mm* e 214mm* e uma abertura máxima F2.8 em formato 35mm. Inclui a mais recente tecnologia, resistente a poeiras, água e temperaturas baixas, um motor linear triplo e a tecnologia de estabilização de imagem líder a nível mundial na sua classe.
 
Além disso, um revestimento Nano-GI também foi aplicado aos elementos para alterar o índice de refração entre os elementos, para minimizar os reflexos da superfície e para evitar reflexos e fantasmas na lente. Além disso, um diafragma arredondado de sete lâminas contribui para uma qualidade bokeh agradável ao trabalhar com técnicas de foco seletivo.
 
Foi projetado para câmaras sem espelho Fujifilm X-mount no formato APS-C e oferece uma faixa de distância focal equivalente a 76-213 mm.
 
A abertura máxima constante de f/2.8 oferece desempenho consistente em toda a faixa de zoom e é excelente ao trabalhar em condições difíceis de iluminação.
 
Cinco elementos de dispersão extra baixa e um elemento Super ED são usados ​​para reduzir significativamente a dispersão de cores e as aberrações cromáticas.
 
O revestimento Nano-GI (Índice de Gradiente) foi aplicado aos elementos da lente e altera o índice de refração entre o vidro e o ar para suprimir melhor o reflexo da lente e o fantasma da luz incidente diagonal.
 
Um revestimento HT-EBC (High Transmitance Electron Beam Coating) foi aplicado em toda a superfície de cada elemento para controlar fantasmas e reflexos para maior contraste e precisão de cores.